EK 推出 EK-Pro GPU WB RTX PRO 6000 SE 显卡分体冷头，单槽 FHFL
如何将“核弹级”GPU压入单槽？EK为RTX PRO 6000 Blackwell打造专业水冷方案
在数据中心和专业工作站领域，GPU散热设计的核心矛盾在于：如何在有限的物理空间内，释放极致算力的全部潜能。近日，LM TEK旗下品牌EK推出的全新水冷头，为这一难题提供了行业级解决方案。
北京时间3月19日，EK正式发布专为英伟达RTX PRO 6000 Blackwell显卡设计的EK-Pro GPU WB RTX PRO 6000 SE专业水冷头。该产品提供服务器版和Max-Q工作站版，核心设计目标只有一个：实现极致的空间压缩，释放高密度部署潜力。
其空间优化效果显著。借助这套分体水冷系统，原本需占用多槽空间的RTX PRO 6000 Blackwell显卡，可被压缩至标准的单槽全高全长规格。这对于计算集群部署意味着革命性改变：在标准的4U机箱内，理论可部署高达8张显卡。相比传统风冷方案，这极大提升了单机柜的算力密度与整体能效比。
体积压缩离不开强大的散热效能作为支撑。该冷头主体采用CNC精密加工的镀镍铜块，确保与GPU核心实现紧密贴合与高效导热。上盖采用激光切割不锈钢，下盖为铝合金材质，共同构成坚固的防护结构。
其散热覆盖范围全面，完整覆盖GPU核心、新一代GDDR7显存以及关键VRM供电模块，这是保障显卡持续高负载稳定运行的基础。内部采用低流阻、高峰值性能冷却引擎，通过优化的喷射板与微鳍片矩阵设计，精确导流冷却液，确保所有高热部件均能获得高效的散热能力。
专业级细节设计同样到位。冷头尾部集成POM材质端子与标准G1/4"螺纹黄铜接口，便于无缝集成至现有水冷循环系统。前端定制I/O挡板取代原装宽挡板，将显卡整体宽度精准控制在22mm，满足单槽安装的物理要求。所有密封接口均采用耐久性EPDM橡胶O型圈，保障系统在长期运行中的稳定与可靠。
EK-Pro GPU WB RTX PRO 6000 SE的推出，不仅是为旗舰级显卡提供散热选项，更是为高密度计算、AI训练及专业可视化等场景，提供了关键的基础设施升级路径，指向了更高算力密度与更优TCO的未来。