ASML高端光刻机或流入中国 美商务部深表关切

美荷之间围绕光刻机出口的博弈有了新进展。路透社6月18日报道披露，美国商务部长霍华德·勒特尼克近日与荷兰ASML高层会晤，当面提出一项关键质疑——美方怀疑，一台ASML生产的顶级芯片制造设备可能已绕过美国出口管制进入中国。这一消息最初由彭博社率先曝光。

报道明确指出，勒特尼克在会谈中直接表达了上述担忧。但ASML方面当场予以否认。其反驳依据相当扎实——公司强调，用于生产超精细芯片电路的极紫外（EUV）光刻系统，本身产量极低，且在整个生命周期内必须依赖ASML工程师的持续维护才能正常运作。换言之，这类设备的流向可被高度监控，几乎不可能在不被察觉的情况下“流失”。

ASML的底气来自该设备的体量与技术门槛。报道描述，其最先进的EUV系统体积堪比一辆校车，重量约180吨。在高端芯片制造产业链中，这台设备被视为核心中的核心，也是当前“卡脖子”的关键装备。一位ASML发言人接受彭博社采访时态度明确：“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机，也从未向中国出口过任何专门为EUV设备设计的部件、模块或设备。”

不过，针对这篇报道的具体说法，美国商务部、ASML以及白宫在路透社常规工作时间之外均未立即回应。值得注意的是，路透社去年12月曾报道，中国一个科研团队在多名ASML前工程师参与下，已搭建出一套EUV原型机。当时业内将此描述为中国在高端芯片制造领域的一场“曼哈顿计划”式攻关。

两件事叠加，局势远比表面复杂。