ASML 向 imec 交付 High NA EUV 光刻机，为亚 2nm 中试线 NanoIC 提供设备基础

ASML向imec交付High NA EUV光刻机，支撑亚2nm NanoIC先导线建设

半导体微缩技术迎来关键设备落地。3月18日，比利时校际微电子研究中心（imec）正式宣布，其战略合作伙伴阿斯麦（ASML）已成功交付首台高数值孔径极紫外光（High NA EUV）光刻系统。型号EXE:5200的设备将直接部署于imec位于鲁汶的洁净室，为核心研发项目NanoIC提供设备基础——该中试线致力于攻克2纳米以下工艺节点的量产瓶颈。

imec与ASML在High NA EUV领域的合作早有布局。此前在ASML荷兰总部设立的联合实验室，已协同产业链伙伴推进了多轮先进图案化技术验证。然而，此次设备直接进驻imec自有研发基地，标志着合作层级的关键跃迁。imec将获得完整的制程调试自主权，研发重心将从早期技术可行性探索，转向具备量产代表性的工艺整合与良率优化。这为评估光阻材料、掩膜版设计与计量方法等关键要素，创造了更贴近实际生产的环境。

设备启用遵循严谨的规划。imec披露，这台EXE:5200 High NA EUV光刻系统预计于2026年第四季度完成全面性能认证。届时，围绕亚2纳米节点的器件集成、互联技术与可靠性的开发节奏，有望获得决定性加速。